eonni pure mask 純淨抗敏舒緩面膜
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HK$230.00
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for sensitive skin
全方位抗敏 舒緩 鎮靜
呵護脆弱細緻的您
採用溫和的天然植物配方，能調理敏感肌膚，增強細胞抵禦外界刺激的能力，舒緩肌膚的敏感現象。配以透明質酸等多種保濕成分，有效鎖住肌膚水分，使肌膚保持水嫩健康狀態。
30g x 6
使用方法
潔面後，取出面膜敷於面上，10-15分鐘後將面膜拿走，輕輕按摩面部，以助剩餘的精華液吸收或以濕棉花抹走多餘精華。
主要功效
抗敏，舒緩，鎮靜
主要成分
【有機洋甘菊精華】：洋甘菊可以安撫敏感的皮膚，舒緩發紅發熱痕癢情況。同時可以改善暗瘡粉刺，濕疹，皮膚炎等問題，長時間用可以修復調理肌膚。
【天然植物抗敏精華】：由積雪草精華、虎杖根精華、黃芩根精華、茶葉精華、光果甘草根精華、母菊花精華、迷迭香精華合成，採用天然本草植物精華配伍，極致溫和，安全無添加，具有良好的抗敏效能，舒緩及鎮定肌膚，安撫止癢，緩解及改善過敏時的紅腫、緊繃、刺痛症狀，提高肌膚組織對抗外界環境的抵禦力，幫助修復肌膚，降低肌膚水分散失，達到保護肌膚屏障作用。
【海藻糖】：海藻糖分子量小，易於被皮膚吸收，進入細胞內發揮其獨特的水替代應激因子作用和保護細胞膜的功能，提高細胞的抗乾燥，從而提高皮膚適應環境能力。與透明質酸互補增效，強效保濕。
【透明質酸】：與人體細胞與細胞間之組織極相似，高分子結構其平均分子量約150萬，具長效保濕，可幫助皮膚保有年輕、健康、柔軟及彈性。
For external use only. Avoid direct contact with eyes. We don't test on animals.
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Ingredients: Aqua, Butylene Glycol, Betaine, Trehalose, Hydroxyethyl Urea, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Centella Asiatica Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Polygonum Cuspidatum Root Extract, Glycyrrhiza Glabra (Licorice) Root Extract, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Extract, Panthenol, Sodium Hyaluronate, Glycerin, Allantoin, Propanediol, Dipotassium Glycyrrhizate, Carbomer, Aminomethyl Propanol, Caprylhydroxamic Acid
